Page 50 - 2025中文型錄
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E-Reticle TM
E-Reticle 光罩 ESD 追蹤設備
● 生產線上測量在環境的電場
● 單次充電可長達 6 小時測試時間
● 可兼容 ASML, NIKON CANON 曝光設備之光罩負載介面
● 設備及光罩尺寸符合 SEMI P1-1101 要求
E-Wafer TM
E-Wafer 晶圓 ESD 追蹤設備
● Wafer 生產線上測量在環境的電場
● 單次充電可達 2 小時測試時間
● 可兼容 200mm & 300mm 晶圓生產設備之負載介面
● 8 個感應 sensor 感測不同位置靜電場變化
● 可於濕製程和真空環境使用
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