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電子封裝相關材料

RBS Concentrated Surfactant
RBS 系列清洗溶劑
高性能 RBS 清洗劑可以完全避免使用有毒化學品和揮發性溶劑，非常適合電子產品的清洗。
RBS 清洗劑提供超清潔和無傳導性雜質殘留的表面，為後續的製造過程提供高產出率。
高效率的清潔：
 金屬化合物，PCB, 電子連接器，錫焊，電子元器件，絲網印刷，塑膠件等。
 IC 製造中的石英玻璃和光掩膜
 用於製造太陽能光伏電池的矽片，以及高科技工業中用於生產 IC 以及電子
器件的由石英、鍺製成的晶片
 陶瓷及複合材料器件及表面
 生產 PCB 的模具
能夠清除油類，油污，聚合物，保護漆，膠粘劑，傳導性殘留物，切割油，研磨
顆粒，拋光膏，樹脂以及灰塵等。

RBS 25 Concentrate:
多用途濃縮型多泡沫鹼性液體清洗劑—適用於人工擦洗、浸泡、超聲波清洗或刷洗系統。
RBS 25 中高活性清潔劑能非常有效地去除幾乎所有類型的表面的多種污漬。
pH (2 % v/v) : ± 11.9

RBS IND 700 :
濃縮型多泡沫鹼性液態清洗劑，具有高的潤濕性和乳化能力，適用於人工擦洗、浸漬、
超聲波或刷洗系統。可以使用自來水，不會因長時間浸泡而產生鈣化沉澱物。
pH (2 % v/v) : ± 11.8

RBS pF :
濃縮型多泡沫不含磷酸鹽的鹼性液態清洗劑，適用於人工擦洗、浸泡、超聲波清洗
或刷洗系統。
pH (2 % v/v) : ± 11.3

RBS 50 :
濃縮型無泡沫鹼性含氯液態清洗劑。適用於浸泡、超聲波清洗或在清洗的設備中進
行清洗。也有一種不含磷酸鹽的配方: RBS 50 pF
pH (0.5 % v/v) : ± 10.7

RBS NEUTRAL :
濃縮型多泡沫不含氯的中性清洗劑，適用於人工擦洗、浸漬、超聲波清洗。
可專門針對於那些用有色金屬（鋁、鋅、銅等）或者是有類似特性的合金
（黃銅、青銅等）來製作的金屬零件和金屬表面進行溫和地清洗。
pH (4 % v/v) : ± 6.9

RBS NA 2 :
濃縮型無泡沫酸性中和劑，適用於清洗機或多槽（室）清洗系統。
也有一種基於有機酸的不含磷酸鹽的配方。: RBS NA 1
pH (0.2 % v/v) : ± 2.2

RBS B 172 :
高性能濃縮型鹼性清洗劑，特別適合半導體工業中矽片，石英晶片等清洗。
減少水和溶劑的使用。pH ( 5 % v/v) : ± 12.4

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